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株式会社テクノファイン
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ターゲット製品:高度情報化社会の中核を支える薄膜技術はさらなるハイテク化にむけて極めて重要な役割を担います。
テクノファインはお客様のニーズに合わせ各種ターゲット材、蒸着材のご提案、試作から、製作、実験成膜膜評価まで、スピーディなトータルサポートをご提供します。





テクノファインが独自のノウハウでお客様のニーズに合わせ、ご提供したターゲット製品の一部をご紹介します。



・DCスパッタリング可能なハイレート導電性セラミックスターゲット
・様々な用途で活用されるハイレート光学膜材料
(高中低屈折率材料)
・高純度SiC導電性ターゲット
・瓦斯バリア膜用セラミックス材料
・各種セラミックス材料にコーティングされる電極材料
・SiO2-Al2O3大型サイズのセラミックス材料
・高純度大口径Al2O3ターゲット、素材
・低融点ターゲット(テクノファインのボンディング技術の成果)
・その他 お客様のニーズ、予算そしてご希望納期に合った各種タ−ゲット材

スペック等、詳しい内容はこちら→お問合せ






一例として・・・







お客様からの
ご相談













ターゲット材
ご提案
製作
バッキング
プレート
製作














ボンディング加工













当社成膜装置
にて
テスト、成膜、評価














量産決定へ






ご使用後のターゲット材、再ボンディング等の技術サポート
また、ターゲット材のみのご要望にもタイムリーにお応え致します。







その他各種ターゲット

FPD用

半導体用

記録メディア用
(光・光磁気記録等)

その他

 Al(3N〜5N),Al alloy
 Cr(3N〜3N5)
 In2O3系
 Mo(3N,4N) Mo合金
 Ta(3N,4N)
 Ti(3N〜6N)
 W(3N,4N)
 ZnO系
 Mo(5N)
 W(5N)
 Ti-W(5N)
 Ti(5N)
 Cr(3N.4N)
 Al(5N)
 Al alloy(5N)
 Ag alloy (3N,4N)
 Al alloy (3N〜5N)
 Si, SiC, 各種セラミックス
 Fe-Co (3N)
 C (3N〜6N), Cr (3N,4N)
 Ni alloy (3N,4N)
 Ti,Ta,各種セラミックス
 Cu
 Cr (3N,4N),Ti (3N〜5N)
 SiO2 (4N)
 AlN(3N)
 SiN系
 Ni系

 その他のターゲット、
 蒸着材につきましても
 随時対応させて頂きます。




内容に関するお問合せはこちら→お問合せ
お問合せ窓口:(株)テクノファイン 営業部/TEL: 044-986-7041/FAX: 044-986-7042
〒215-0033 神奈川県川崎市麻生区栗木2-6-1

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